Phân tích yêu cầu thực hiện củamục tiêu titantrong các ngành công nghiệp khác nhau
Gmail:alisa@jmyunti.com
I. Yêu cầu hiệu suất cơ bản của mục tiêu titan
① Độ tinh khiết: Là một trong những chỉ số hiệu suất chính của vật liệu mục tiêu, độ tinh khiết có tác động quan trọng đến hiệu suất của màng mỏng. Trong các ứng dụng thực tế, các yêu cầu về độ tinh khiết mục tiêu khác nhau tùy theo từng ngành. Ví dụ, trong ngành vi điện tử, với sự gia tăng liên tục về kích thước tấm silicon và sự giảm liên tục chiều rộng dây dẫn, các yêu cầu về độ tinh khiết của mục tiêu cũng ngày càng tăng. Trước đây, độ tinh khiết mục tiêu 99,995% có thể đáp ứng các yêu cầu quy trình của IC 0.35um, nhưng hiện nay việc chuẩn bị các dòng 0.18um yêu cầu độ tinh khiết mục tiêu phải đạt 99,999% hoặc thậm chí 99,9999%.
② Hàm lượng tạp chất: Các tạp chất trong chất rắn mục tiêu và oxy và hơi nước trong lỗ chân lông là nguồn gây ô nhiễm chính cho màng lắng đọng. Vì vậy, các mục tiêu cho các mục đích khác nhau có yêu cầu khác nhau về hàm lượng tạp chất. Ví dụ, mục tiêu nhôm và hợp kim nhôm nguyên chất được sử dụng trong ngành bán dẫn có yêu cầu đặc biệt về hàm lượng kim loại kiềm và hàm lượng nguyên tố phóng xạ.
③ Mật độ: Để giảm lỗ chân lông trong chất rắn mục tiêu và cải thiện hiệu suất của màng phún xạ, mục tiêu thường phải có mật độ cao hơn. Mật độ của vật liệu mục tiêu không chỉ ảnh hưởng đến tốc độ phún xạ mà còn ảnh hưởng đến tính chất điện và quang của màng. Ngoài ra, việc cải thiện mật độ và độ bền của vật liệu mục tiêu cũng có thể giúp nó chịu được ứng suất nhiệt tốt hơn trong quá trình phún xạ. Do đó, mật độ cũng là một trong những chỉ số hiệu suất chính của vật liệu mục tiêu.
④ Kích thước hạt và phân bố kích thước hạt: Vật liệu mục tiêu thường có cấu trúc đa tinh thể và kích thước hạt có thể dao động từ micron đến milimet. Đối với cùng một vật liệu mục tiêu, tốc độ phún xạ của mục tiêu có hạt mịn thường nhanh hơn tốc độ phún xạ của mục tiêu có hạt thô; và sự phân bố độ dày của màng được lắng đọng bằng cách phún xạ mục tiêu có sự khác biệt nhỏ về kích thước hạt (phân bố đồng đều) sẽ đồng đều hơn.
2. Yêu cầu về độ tinh khiết đối với mục tiêu titan trong các ngành công nghiệp khác nhau
① Mục tiêu titan dùng trong mạch tích hợp: Mạch tích hợp yêu cầu độ tinh khiết cực cao đối với mục tiêu titan, thường lớn hơn 99,995% để đảm bảo hiệu suất và độ ổn định của màng.
② Mục tiêu titan được sử dụng trong màn hình phẳng: Màn hình phẳng bao gồm màn hình tinh thể lỏng, màn hình plasma, màn hình điện phát quang và màn hình phát xạ trường. Những màn hình này thường sử dụng công nghệ phủ phún xạ để lắng đọng màng mỏng trong quá trình sản xuất. Trong số đó, mục tiêu titan, là một trong những mục tiêu phún xạ quan trọng, thường cần phải có độ tinh khiết lớn hơn 99,9%. Ngoài ra, mục tiêu titan cũng có thể được sử dụng rộng rãi trong các lĩnh vực công nghệ cao như điện tử, công nghiệp thông tin, trang trí nhà cửa và sản xuất kính ô tô. Trong các ngành công nghiệp này, mục tiêu titan chủ yếu được sử dụng để phủ các mạch tích hợp, màn hình phẳng hoặc làm vật trang trí và lớp phủ kính. Bằng cách tối ưu hóa hiệu suất và độ tinh khiết của mục tiêu titan, có thể đáp ứng được yêu cầu của các ngành công nghiệp khác nhau về hiệu suất và độ ổn định của màng.
Công ty: Công ty TNHH Thương mại Động Baoji
Quốc gia:Trung Quốc
Địa chỉ: Đường Baoti, Jintai, thành phố Baoji, Thiểm Tây, Trung Quốc
Cel+86 18391896637(WHATSAPP)/18391894207
Gmail:alisa@jmyunti.com
Trang web: www.jm-titanium.com
